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| 電子線ビームにより微細なパターンを描き、精密な微細加工が行える装置です。ナノレベルで複雑なパターンが描画できるため、極めて微細なパターンを作製することができます。半導体加工やデバイスの研究開発への応用が可能です。 |
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 | 汎用のCAD/CAMで複雑なパターニングが可能 |
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| 別のCADでパターニングしたデータをDXF・DWGなどのファイル形式で取り込み可能 |
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| 加速電圧 | 0.5kV〜30kV | | 描画方式 | ラスター、ベクター、ショット描画 | | 図形つなぎ精度 | 0.3μm以下 | | 図形重ね精度 | 0.4μm以下 | | 最小描画線幅 | 20nm |
| 電子銃 | ZrO／W＜100＞
ショットキー方式 | | |
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| 設置場所：バイオナノテクセンター（片柳研究所棟 地下1階分室1） |
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